Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist (2011)
- Authors:
- Autor USP: GONCALVES NETO, LUIZ - EESC
- Unidade: EESC
- DOI: 10.1149/1.3615224
- Subjects: ÓPTICA; LENTES
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Philadelphia, PA
- Date published: 2011
- Source:
- Título: ECS Transactions
- ISSN: 1938-5862
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 39, n. 1, p. 439-446, 2011
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio e MONTAGNOLI, Arlindo Neto e GONÇALVES NETO, Luiz. Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist. ECS Transactions, v. 39, n. 1, p. 439-446, 2011Tradução . . Disponível em: http://dx.doi.org/10.1149/1.3615224. Acesso em: 18 fev. 2026. -
APA
Cirino, G. A., Montagnoli, A. N., & Gonçalves Neto, L. (2011). Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist. ECS Transactions, 39( 1), 439-446. doi:10.1149/1.3615224 -
NLM
Cirino GA, Montagnoli AN, Gonçalves Neto L. Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist [Internet]. ECS Transactions. 2011 ; 39( 1): 439-446.[citado 2026 fev. 18 ] Available from: http://dx.doi.org/10.1149/1.3615224 -
Vancouver
Cirino GA, Montagnoli AN, Gonçalves Neto L. Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist [Internet]. ECS Transactions. 2011 ; 39( 1): 439-446.[citado 2026 fev. 18 ] Available from: http://dx.doi.org/10.1149/1.3615224 - Modelos eletronicos do atrito seco, sistemas biestaveis e colisoes elasticas e inelasticas
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Informações sobre o DOI: 10.1149/1.3615224 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
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sysno3192232_artigo 06.pd... |
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