Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition (2023)
- Authors:
- USP affiliated authors: ASSAF, ELISABETE MOREIRA - IQSC ; RASTEIRO, LETÍCIA FERNANDA - IQSC
- Unidade: IQSC
- DOI: 10.1016/j.tsf.2023.139716
- Subjects: FÍSICO-QUÍMICA; FILMES FINOS
- Keywords: Atomic layer deposition; SBA-15; Zirconium oxide; Adsorption–desorption isotherms; Mesoporous materials
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Thin Solid Films
- ISSN: 1879-2731
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 769, art. 139716, 2023
- Status:
- Artigo possui versão em acesso aberto em repositório (Green Open Access)
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-
ABNT
RASTEIRO , Letícia Fernanda et al. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition. Thin Solid Films, v. 769, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716. Acesso em: 07 abr. 2026. -
APA
Rasteiro , L. F., Motin, M. A., Vieira, L. H., Assaf, E. M., & Zaera, F. (2023). Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition. Thin Solid Films, 769. doi:10.1016/j.tsf.2023.139716 -
NLM
Rasteiro LF, Motin MA, Vieira LH, Assaf EM, Zaera F. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 769[citado 2026 abr. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716 -
Vancouver
Rasteiro LF, Motin MA, Vieira LH, Assaf EM, Zaera F. Growth of ZrO2 films on mesoporous silica sieve via atomic layer deposition [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 769[citado 2026 abr. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139716 - Investigation of intermediates formation in the CO2 hydrogenation to methanol reaction over Ni5Ga3-ZrO2-SBA-15 materials prepared via ZrO2 atomic layer deposition
- Estudos sobre os efeitos sinérgicos entre liga-suporte para catalisadores de Ni5Ga3 suportados em óxidos na hidrogenação do CO2 a metanol
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