Mechanical behavior of hybrid zirconia developed through Room Temperature Atomic Layer Deposition (RT-ALD) (2021)
- Authors:
- Autor USP: BITENCOURT, NATÁLIA ALMEIDA BASTOS - FOB
- Unidade: FOB
- Sigla do Departamento: BAD
- DOI: 10.11606/T.25.2021.tde-18112021-111025
- Subjects: MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA; ZIRCÔNIA; RESISTÊNCIA DE UNIÃO (ODONTOLOGIA); PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
- Keywords: Cerâmica; Ceramics; Microscopia eletrônica de varredura; Microscopy Electron Scanning; Resistência ao cisalhamento; Shear strength; Silica; Sílica
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Abstract: Objetivos: Avaliar o comportamento mecânico da interface híbrida entre a camada transformada da zirconia e o nanofilme à base de sílica, depositado por meio de Deposição em Camada Atômica à Temperatura Ambiente (RT-ALD) assim como a resistência de união entre a zircônia e o cimento resinoso após a aplicação da técnica de RT-ALD. Materiais e Métodos: Espécimes Y-PSZ totalmente sinterizados em diferentes translucências (MO, MT, LT) foram distribuídos em 5 grupos: controle (C - sem tratamento); tratamento hidrotérmico (TH- 15h - 134 °C, 2 bar); jateamento de alumina (J - 50 m Al2O3); deposição de sílica RT-ALD (S); TH seguido de deposição de sílica (THS). Os ciclos de RT-ALD consistiram na exposição sequencial das amostras a vapores de ortossilicato de tetrametoxissilano (TMOS - 60s) e hidróxido de amônio (NH4OH - 10 min) em 40 ciclos. O desempenho mecânico foi analisado pelos testes de resistência à flexão (RF) e carga de ruptura por fadiga. A dureza superficial (D) e o módulo de Young (MY) foram analisados por nanoindentação. Para caracterização química e topográfica de superfície, foram realizadas espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS) e microscopia eletrônica de varredura (MEV). Para o teste de resistência de união ao cisalhamento (RUC), cilindros de resina composta foram cimentados na superfície da zircônia com cimento resinoso (multilink Automix) e, após o teste, o modo de falha foi avaliado. Os dados de D, MY, RF, RUC e limite de fadiga (LF) foram analisados porANOVA dois critérios. Resultados: A topografia de superfície apresentou-se mais áspera para os grupos jateados. Na análise por XPS, um nanofilme de sílica foi observado sobre a superfície da zircônia após RTALD. Valores de resistência de união do grupo S e THS foram semelhantes ao grupo J (p> 0,848). Ambos os tratamentos S mostraram valores de FS semelhantes aos grupos B (p > 0,410). S não afetou LF quando comparado ao grupo C (p > 0,277) para todos os materiais avaliados. Conclusões: A técnica RT-ALD apresentou-se eficaz na deposição de sílica na superfície da zircônia, apresentando resultados de resistência de união semelhantes aos espécimes jateados. Além disso, não apresentou nenhum efeito deletério nas propriedades mecânicas.
- Imprenta:
- Data da defesa: 15.07.2021
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- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by-nc-sa
-
ABNT
BITENCOURT, Natália Almeida Bastos. Mechanical behavior of hybrid zirconia developed through Room Temperature Atomic Layer Deposition (RT-ALD). 2021. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, Bauru, 2021. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/25/25148/tde-18112021-111025/. Acesso em: 28 dez. 2025. -
APA
Bitencourt, N. A. B. (2021). Mechanical behavior of hybrid zirconia developed through Room Temperature Atomic Layer Deposition (RT-ALD) (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, Bauru. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/25/25148/tde-18112021-111025/ -
NLM
Bitencourt NAB. Mechanical behavior of hybrid zirconia developed through Room Temperature Atomic Layer Deposition (RT-ALD) [Internet]. 2021 ;[citado 2025 dez. 28 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/25/25148/tde-18112021-111025/ -
Vancouver
Bitencourt NAB. Mechanical behavior of hybrid zirconia developed through Room Temperature Atomic Layer Deposition (RT-ALD) [Internet]. 2021 ;[citado 2025 dez. 28 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/25/25148/tde-18112021-111025/ - Silica deposition on zirconia via room-temperature atomic layer deposition (RT-ALD): effect on bond strength to veneering ceramic
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Informações sobre o DOI: 10.11606/T.25.2021.tde-18112021-111025 (Fonte: oaDOI API)
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