Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel (1996)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; SALVADORI, MARIA CECILIA BARBOSA DA SILVEIRA - IF
- Unidade: IF
- Subjects: FILMES FINOS; DIFRAÇÃO POR RAIOS X
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 1996
- Conference titles: Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica
-
ABNT
FARIA, I. C. et al. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996, Anais.. São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Faria, I. C., Kleinke, M., Gorenstein, A., Fantini, M., Tabacniks, M., & Salvadori, M. C. (1996). Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. In . São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. -
NLM
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Intercalação de lítio em filmes finos de óxido de milibdênio
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