Análise fotoelástica de implantes cone-Morse posicionados ao nível e infraósseo na região posterior (2013)
- Authors:
- Autor USP: ALVES, SULEIMA DO VALE - FORP
- Unidade: FORP
- Sigla do Departamento: 805
- Assunto: IMPLANTES DENTÁRIOS (TÉCNICAS;ANÁLISE)
- Keywords: análises fotoelásticas; colocação equicrestal; colocação subcristal; cone-Morse; dental implants; equicrestal placement; implantes dentais; Morse taper; photoelastic analysis; subcrestal placement
- Language: Português
- Abstract: O meio cientifico na área odontológica está sempre procurando materiais e tratamentos que de maior previsibilidade e sucesso em longo prazo. Este trabalho procurou avaliar, por meio de análise fotoelástica, o comportamento das tensões geradas de cargas exercidas em prótese sobre implante posteriores adjacente ou não a réplicas de dentes. Todos os implantes cone-Morse utilizados eram da marca ANKYLOS®, da Dentsply, de 3,5 x 9,5 mm. Para a confecção das réplicas dos dentes utilizou-se resina Luxatemp e foram confeccionadas coroas unitárias de cerâmica. Foram confeccionados três modelos contendo dente-implante-dente, entretanto em cada modelo o implante apresentava-se em uma altura diferente em relação à crista marginal (nível, 1,5 mm e 3,0 mm subcristal). Foram fabricados mais três modelos com as mesmas características, mas com ausência do segundo molar e três modelos com apenas o implante em posição. Os modelo com três elementos com carregamento axial (oclusão balanceada) apresentaram tensões com direção para a região apical conforme o implante apresentava-se mais subcristal; os modelo com dois elementos com carregamento axial (oclusão balanceada), modelos com implantes unitários com carregamento axial (pontual central), modelos com implantes unitários com carregamento axial (pontual distal) e os modelos com implante unitário com carregamento não axial (vestibular-lingual) apresentaram também o mesmo comportamento em relação ao direcionamento das tensões para a região apical. A diferenciação entre os modelos foi observada apenas em relação a intensidade das tensões de algumas regiões. Desta maneira pode-se concluir que quanto mais subcristal o implante se encontra menor é a tensão na região cristal, independentemente da presença ou não de dentes adjacentes, e a presença de dentes adjacentes à prótese sobre implante influência na intensidade de tensão geradanos implantes, mas não há influência no direcionamento dessas tensões
- Imprenta:
- Publisher place: Ribeirão Preto
- Date published: 2013
- Data da defesa: 06.12.2013
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ABNT
ALVES, Suleima do Vale. Análise fotoelástica de implantes cone-Morse posicionados ao nível e infraósseo na região posterior. 2013. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, Ribeirão Preto, 2013. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-31012014-094656/. Acesso em: 23 jan. 2026. -
APA
Alves, S. do V. (2013). Análise fotoelástica de implantes cone-Morse posicionados ao nível e infraósseo na região posterior (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, Ribeirão Preto. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-31012014-094656/ -
NLM
Alves S do V. Análise fotoelástica de implantes cone-Morse posicionados ao nível e infraósseo na região posterior [Internet]. 2013 ;[citado 2026 jan. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-31012014-094656/ -
Vancouver
Alves S do V. Análise fotoelástica de implantes cone-Morse posicionados ao nível e infraósseo na região posterior [Internet]. 2013 ;[citado 2026 jan. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-31012014-094656/
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