X-Ray reflectivity analysis of titanium dioxide thin films grown by cathodic arc deposition (2014)
- Authors:
- Autor USP: CRAIEVICH, ALDO FELIX - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1166/jnn.2014.8017
- Subjects: RAIOS X; MICROSCOPIA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 14, n. 5, p. 3902-3909, mai. 2014
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: green
- Licença: cc-by-nc-sa
-
ABNT
KLEIMAN, A. et al. X-Ray reflectivity analysis of titanium dioxide thin films grown by cathodic arc deposition. JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, v. 14, n. 5, p. 3902-3909, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1166/jnn.2014.8017. Acesso em: 18 set. 2024. -
APA
Kleiman, A., Lamas, D. G., Marquez, A., & Craievich, A. F. (2014). X-Ray reflectivity analysis of titanium dioxide thin films grown by cathodic arc deposition. JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, 14( 5), 3902-3909. doi:10.1166/jnn.2014.8017 -
NLM
Kleiman A, Lamas DG, Marquez A, Craievich AF. X-Ray reflectivity analysis of titanium dioxide thin films grown by cathodic arc deposition [Internet]. JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY. 2014 ; 14( 5): 3902-3909.[citado 2024 set. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1166/jnn.2014.8017 -
Vancouver
Kleiman A, Lamas DG, Marquez A, Craievich AF. X-Ray reflectivity analysis of titanium dioxide thin films grown by cathodic arc deposition [Internet]. JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY. 2014 ; 14( 5): 3902-3909.[citado 2024 set. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1166/jnn.2014.8017 - Fractal nature of porous tricalcium silicate dry gels
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Informações sobre o DOI: 10.1166/jnn.2014.8017 (Fonte: oaDOI API)
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