On the vSiO infrared absrption of polysiloxane films (2012)
- Authors:
- Autor USP: RODRIGUES FILHO, UBIRAJARA PEREIRA - IQSC
- Unidade: IQSC
- DOI: 10.1016/j.tsf.2012.01.046
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 520,n. 11, p. 3918-3921, 2012
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
CHAZALVIEL, Jean-Nöel; RODRIGUES FILHO, Ubirajara Pereira. On the vSiO infrared absrption of polysiloxane films. Thin Solid Films, Lausanne, v. 520, n. 11, p. 3918-3921, 2012. Disponível em: < http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.01.046 > DOI: 10.1016/j.tsf.2012.01.046. -
APA
Chazalviel, J. -N., & Rodrigues Filho, U. P. (2012). On the vSiO infrared absrption of polysiloxane films. Thin Solid Films, 520( 11), 3918-3921. doi:10.1016/j.tsf.2012.01.046 -
NLM
Chazalviel J-N, Rodrigues Filho UP. On the vSiO infrared absrption of polysiloxane films [Internet]. Thin Solid Films. 2012 ; 520( 11): 3918-3921.Available from: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.01.046 -
Vancouver
Chazalviel J-N, Rodrigues Filho UP. On the vSiO infrared absrption of polysiloxane films [Internet]. Thin Solid Films. 2012 ; 520( 11): 3918-3921.Available from: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.01.046 - Síntese de alcóxiorganossilanos para modificação da superfície de óxidos inogânicos
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.tsf.2012.01.046 (Fonte: oaDOI API)
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