Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte

Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte (2008)

Authors:
Autor USP: BORSATTO, MARIA CRISTINA - FORP
Unidade: FORP
Subjects: ESMALTE DENTÁRIO; SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS
Language: Português
Imprenta:
- Publisher place: Curitiba
- Date published: 2008
Source:
- Título: Anais
- ISSN: 1984-1426
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 38, n. 1
Conference titles: Encontro do Grupo Brasileiro de Professores de Ortodontia e Odontopediatria

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ABNT

GIUNTINI, J. L et al. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. Curitiba: Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 04 mar. 2026. , 2008
APA

Giuntini, J. L., Contente, M. M. M. G., Brandão, C. B., & Borsatto, M. C. (2008). Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. Curitiba: Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo.
NLM

Giuntini JL, Contente MMMG, Brandão CB, Borsatto MC. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. 2008 ; 38( 1):[citado 2026 mar. 04 ]
Vancouver

Giuntini JL, Contente MMMG, Brandão CB, Borsatto MC. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. 2008 ; 38( 1):[citado 2026 mar. 04 ]