Hardness and structure characterization of Ti6Al4V films produced by reactive magnetron sputtering on a conventional austenitic stainless steel (2008)
- Authors:
- Autor USP: TSCHIPTSCHIN, ANDRE PAULO - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/j.mejo.2008.01.047
- Subjects: TITÂNIO; LIGAS NÃO FERROSAS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Microelectronics Journal
- ISSN: 0026-2692
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 39,p. 1329-1330, 2008
- Status:
- Nenhuma versão em acesso aberto identificada
-
ABNT
GARZON, Carlos Mario et al. Hardness and structure characterization of Ti6Al4V films produced by reactive magnetron sputtering on a conventional austenitic stainless steel. Microelectronics Journal, v. 39, p. 1329-1330, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2008.01.047. Acesso em: 09 abr. 2026. -
APA
Garzon, C. M., Alfonso Jose E,, Corredor, E. C., Recco, A. A. C., & Tschiptschin, A. P. (2008). Hardness and structure characterization of Ti6Al4V films produced by reactive magnetron sputtering on a conventional austenitic stainless steel. Microelectronics Journal, 39, 1329-1330. doi:10.1016/j.mejo.2008.01.047 -
NLM
Garzon CM, Alfonso Jose E, Corredor EC, Recco AAC, Tschiptschin AP. Hardness and structure characterization of Ti6Al4V films produced by reactive magnetron sputtering on a conventional austenitic stainless steel [Internet]. Microelectronics Journal. 2008 ; 39 1329-1330.[citado 2026 abr. 09 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2008.01.047 -
Vancouver
Garzon CM, Alfonso Jose E, Corredor EC, Recco AAC, Tschiptschin AP. Hardness and structure characterization of Ti6Al4V films produced by reactive magnetron sputtering on a conventional austenitic stainless steel [Internet]. Microelectronics Journal. 2008 ; 39 1329-1330.[citado 2026 abr. 09 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2008.01.047 - Efeito do silicio na reacao bainitica em ferro fundido nodular austemperado a 400'GRAUS'c
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Tschiptschin-2008-Hardnes... |
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