Estudo da eletrodeposição do cobre a partir de banhos alcalinos isentos de cianetos (2008)
- Authors:
- Autor USP: VARGAS, CRISTIANE - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PMT
- Subjects: ELETRODEPOSIÇÃO; ELETRÓLITOS; ELETROQUÍMICA; GALVANOPLASTIA; REVESTIMENTOS
- Language: Português
- Abstract: Nos últimos anos, devido às políticas de preservação do meio ambiente e de segurança do trabalho, as indústrias têm mostrado interesse em substituir os banhos de cobre alcalino a base de cianetos. Estes banhos são utilizados há décadas, por serem capazes de produzir, sobre ligas de zinco fundidas sob pressão (Zamac), uma camada de cobre aderente, tanto em bateladas como em tambor rotativo. Sobre esta camada é possível a aplicação de revestimentos aderentes de cromo decorativo (níquel e cromo). No mercado nacional, já se têm disponíveis banhos alcalinos isentos de cianetos com desempenho satisfatório somente para aço-carbono, os quais não produzem revestimentos aderentes sobre o Zamac, especialmente, em tambores rotativos. Com isto, o presente trabalho teve como objetivo principal o desenvolvimento de um banho de cobre toque alcalino isento de cianetos, por meio do qual fosse possível a obtenção de eletrodepósitos com aderência satisfatória sobre Zamac, em condições de eletrodeposição que simulam as de um processo de tambor rotativo. Para o estudo, foi utilizado como banho de partida, o banho toque da Atotech do Brasil Galvanotécnica Ltda, a base do ácido 1hidroxietano1 1difosfônico (HEDP ou H4L, onde L é o ânion complexante), cujo depósito de cobre resultante apresenta falta de aderência sobre peças a granel de Zamac. Para atingir tal objetivo, a parte experimental deste trabalho foi dividida em três etapas. A primeira etapa consistiu de ensaios preliminares, cujo objetivo foi modificar o banho toque comercial por meio da adição de uma série de compostos orgânicos e inorgânicos para torná-lo adequado para processos em tambor rotativo. A segunda etapa objetivou a determinação das faixas adequadas das condições operacionais (temperatura, agitação, pH e densidade de corrente) e da composição química (concentrações do HEDP, dos íons Cu²+ e dos aditivos).Finalmente, na terceira etapa, foi estudado o mecanismo de deposição do cobre a partir de um banho toque a base de HEDP sem aditivos, por meio de técnicas eletroquímicas (voltametria cíclica, polarização potenciodinâmica e potencial de circuito aberto). Com isto, foi possível a proposição de um banho toque com desempenho satisfatório, introduzindo no banho comercial de partida as seguintes modificações: aumento da concentração do HEDP, aumento do pH e a adição de cloreto de potássio. Os ensaios voltamétricos mostraram que o HEDP sofre redução no catodo e que a eletrodeposição do cobre ocorre por meio da redução direta dos íons Cu²+ a cobre metálico, sem a formação de intermediários de Cu+. As medidas de potencial de circuito aberto do cobre imerso no banho a base de HEDP forneceram indicações de que devem existir outros complexos, além do CuL²- citado na maioria da literatura consultada. A hipótese da formação do CuL'IND.2''POT.6-', citado por um único autor, foi levantada, porém, a sua formação não foi confirmada.
- Imprenta:
- Data da defesa: 31.07.2008
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ABNT
VARGAS, Cristiane. Estudo da eletrodeposição do cobre a partir de banhos alcalinos isentos de cianetos. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. . Acesso em: 02 maio 2025. -
APA
Vargas, C. (2008). Estudo da eletrodeposição do cobre a partir de banhos alcalinos isentos de cianetos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Vargas C. Estudo da eletrodeposição do cobre a partir de banhos alcalinos isentos de cianetos. 2008 ;[citado 2025 maio 02 ] -
Vancouver
Vargas C. Estudo da eletrodeposição do cobre a partir de banhos alcalinos isentos de cianetos. 2008 ;[citado 2025 maio 02 ]
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