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Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea (2007)

  • Authors:
  • Autor USP: SILVA, JACIARA MIRANDA GOMES DA - FORP
  • Unidade: FORP
  • Sigla do Departamento: 807
  • Subjects: SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS; ADESIVOS DENTINÁRIOS; MATERIAIS DENTÁRIOS
  • Language: Português
  • Abstract: Este trabalho teve por objetivo avaliar "in vitro" a resistência ao cisalhamento de um selante resinoso (Fluroshield - F) em associação com um sistema adesivo total-etch (Adper Single Bond 2-SB) e um self-etching (Clearfil 83 Bond-S3) em condições de contaminação salivar, comparando dois protocolos de fotopolimerização: individual do sistema adesivo e, em seguida, do selante ou simultânea de ambos materiais conjuntamente. Superfícies mesiais e distais de 45 terceiros molares humanos hígidos foram incluídas e planificadas, o sítio de adesão delimitado (Æ 3mm) e os corpos-de-prova alocados aleatoriamente em 6 grupos experimentais (n=15), de acordo com o tratamento empregado: I- F aplicado sobre o esmalte condicionado com ácido fosfórico a 37% (controle). Os demais grupos foram contaminados com saliva (0,01 ml por 10 s) e a seguir foram aplicados: II- SB e F fotopolimerizados separadamente; III- SB e F fotopolimerizados conjuntamente; IV- S3 e F fotopolimerizados separadamente; V- S3 e F fotopolimerizados simultaneamente; VI- F aplicado sem associação com adesivos sobre o esmalte condicionado e contaminado. A seguir, um cilindro de selante foi confeccionado com o auxílio de uma mesa metálica e de matriz de teflon bipartida sobre o sítio de adesão. Após armazenamento durante 24 horas a 37°C em água destilada, os espécimes foram submetidos ao teste de resistência ao cisalhamento em Máquina de Ensaios Universal (0,5mm/min; 50Kgf). As interfaces adesivas foram analisadas quanto aotipo de fratura em microscópio óptico com 20x de aumento e para análise qualitativa, três espécimes de cada grupo, foram selecionados e analisados em microscópio eletrônico de varredura. As médias obtidas, em MPa, e os desvios padrão foram: I-12,28 (±4,29); II-8,57 (±3,19); III-7,97 (±2,16); IV-12,56 (±3,11); V- 11,45 (±3,77); e VI-7,47 (±1,99). A análise estatística, por meio da Análise de Variância e teste de Fisher, demonstrou que a ) contaminação salivar afetou negativamente a resistência adesiva. A associação do sistema adesivo self-etching ao selante resultou em uma média semelhante estatisticamente ao grupo controle. Comparando os protocolos de fotopolimerização, não houve diferença estatisticamente significante entre os grupos nos quais foi realizada a fotopolimerização simultânea ou individual dos materiais. Com base nestes resultados pôde-se concluir que o protocolo de fotopolimerização não afetou os valores de resistência adesiva ao esmalte condicionado e contaminado. A associação do sistema adesivo self-etching Clearfil S3 Bond ao selante Fluroshield aumentou a resistência ao cisalhamento com diferença estastísticamente significante em relação aos grupos nos quais foi utilizado o sistema adesivo Adper Single Bond 2 e com valor médio semelhante ao grupo controle, no qual o selante foi aplicado em condições ideais, na ausência de contaminação salivar
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 06.08.2007
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      SILVA, Jaciara Miranda Gomes da; BORSATTO, Maria Cristina. Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea. 2007.Universidade de São Paulo, Ribeirão Preto, 2007. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58135/tde-13122007-110447/ >.
    • APA

      Silva, J. M. G. da, & Borsatto, M. C. (2007). Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea. Universidade de São Paulo, Ribeirão Preto. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58135/tde-13122007-110447/
    • NLM

      Silva JMG da, Borsatto MC. Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58135/tde-13122007-110447/
    • Vancouver

      Silva JMG da, Borsatto MC. Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58135/tde-13122007-110447/

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