Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition (2007)
- Authors:
- USP affiliated author: SUMODJO, PAULO TENG AN - IQ
- School: IQ
- DOI: 10.1016/j.electacta.2007.03.048
- Subjects: ELETRODEPOSIÇÃO; PALÁDIO; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Electrochimica Acta
- ISSN: 0013-4686
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 52 n. 20, p. 6089-6096, 2007
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
TAKATA, Fernanda Merie e SUMODJO, Paulo Teng An. Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition. Electrochimica Acta, v. 52 n. 20, p. 6089-6096, 2007Tradução . . Acesso em: 05 jul. 2022. -
APA
Takata, F. M., & Sumodjo, P. T. A. (2007). Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition. Electrochimica Acta, 52 n. 20, 6089-6096. doi:10.1016/j.electacta.2007.03.048 -
NLM
Takata FM, Sumodjo PTA. Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition. Electrochimica Acta. 2007 ; 52 n. 20 6089-6096.[citado 2022 jul. 05 ] -
Vancouver
Takata FM, Sumodjo PTA. Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition. Electrochimica Acta. 2007 ; 52 n. 20 6089-6096.[citado 2022 jul. 05 ] - Estudo do pré-tratamento anódico em eletrodos de diamante DDB para deposição de platina
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.electacta.2007.03.048 (Fonte: oaDOI API)
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