SiO2/Si wafer surface modification with short silanes bearing N-heterocycles and a long chain alkyl silane (2007)
- Authors:
- USP affiliated author: RODRIGUES FILHO, UBIRAJARA PEREIRA - IQSC
- School: IQSC
- Subject: QUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Elsevier Science
- Place of publication: Amsterdam
- Date published: 2007
- Source:
- Título do periódico: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
- ISSN: 0368-2048
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 156/158, p. xx-civ, 2007
- Conference title: International Conference on Electronic Spectroscopy and Structure
-
ABNT
ANDRESA, Juliana Salvador; AUGUST, D.; MEKHALIF, Z.; et al. SiO2/Si wafer surface modification with short silanes bearing N-heterocycles and a long chain alkyl silane. Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena[S.l: s.n.], 2007. -
APA
Andresa, J. S., August, D., Mekhalif, Z., Delhalle, J., Hevesi, L., & Rodrigues Filho, U. P. (2007). SiO2/Si wafer surface modification with short silanes bearing N-heterocycles and a long chain alkyl silane. Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. Amsterdam: Elsevier Science. -
NLM
Andresa JS, August D, Mekhalif Z, Delhalle J, Hevesi L, Rodrigues Filho UP. SiO2/Si wafer surface modification with short silanes bearing N-heterocycles and a long chain alkyl silane. Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 2007 ; 156/158 xx-civ. -
Vancouver
Andresa JS, August D, Mekhalif Z, Delhalle J, Hevesi L, Rodrigues Filho UP. SiO2/Si wafer surface modification with short silanes bearing N-heterocycles and a long chain alkyl silane. Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 2007 ; 156/158 xx-civ. - Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS
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