Production of selective membranes using plasma deposited nanochanneled thin films (2006)
- Authors:
- USP affiliated authors: DEMARQUETTE, NICOLE RAYMONDE - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1590/s1516-14392006000400007
- Subjects: POLIMERIZAÇÃO; PLASMA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Sao Carlos
- Date published: 2006
- Source:
- Título: Materials Research
- ISSN: 1516-1439
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 9, no. 4, p. 381-386, 2006
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
CARVALHO, Rodrigo Amorim Motta et al. Production of selective membranes using plasma deposited nanochanneled thin films. Materials Research, v. 9, p. 381-386, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s1516-14392006000400007. Acesso em: 24 jan. 2026. -
APA
Carvalho, R. A. M., Carvalho, A. T. de, Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2006). Production of selective membranes using plasma deposited nanochanneled thin films. Materials Research, 9, 381-386. doi:10.1590/s1516-14392006000400007 -
NLM
Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR. Production of selective membranes using plasma deposited nanochanneled thin films [Internet]. Materials Research. 2006 ; 9 381-386.[citado 2026 jan. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s1516-14392006000400007 -
Vancouver
Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR. Production of selective membranes using plasma deposited nanochanneled thin films [Internet]. Materials Research. 2006 ; 9 381-386.[citado 2026 jan. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s1516-14392006000400007 - Modificação superficial usando hexametildissilazana: comparação entre processos úmidos e seco
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Informações sobre o DOI: 10.1590/s1516-14392006000400007 (Fonte: oaDOI API)
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