Preparação de metal duro para deposição de filmes de diamante policristalino (2005)
- Authors:
- Autor USP: LOPES, LUTERO HARZER - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA); METAIS; FILMES FINOS
- Language: Português
- Abstract: Este trabalho consiste do estudo de uma sistemática de preparação de amostras para deposição de filmes de diamante policristalino sobre um substrato de metal duro (WC-6%Co) com boa aderência. A presença do cobalto é interessante no metal duro, pois funciona com aglomerante das partículas duras de carboneto de tungstênio. Porém é indesejada em superfícies onde se pretendem depositar filmes de diamante porque ele reage com o carbono do filme a ser depositado formando uma camada superficial de carbono amorfo a qual tem baixa aderência. Assim torna-se necessário sua remoção antes do processo de deposição. As amostras de metal duro foram cilindros de 5 mm de diâmetro compostas por 94% de carboneto de tungstênio (WC) e 6% de cobalto (Co). Os cilindros foram cortados com disco de diamante com espessuras de 5 ou 3,5 mm. O processo de preparação das amostras foi dividido nas seguintes etapas: limpeza das amostras com acetona em banho de ultra-som por 10 minutos com o objetivo de remover impurezas orgânicas; corrosão das amostras em banho de ultra-som por 20 minutos com reagente Murakami {10 g K3 [Fe (CN)6] + 10 g KOH + 100 ml H2O} ou KOH seguida da corrosão ácida em banho de ultra-som por 10 minutos com solução de ácido nítrico, sulfúrico ou clorídrico com o objetivo de remover o cobalto superficial; limpeza em água corrente para remoção dos resíduos da corrosão; semeadura com suspensão de pó de diamante em ultra-som por 10 minutos com o objetivo de melhorar a nucleação;remoção do excesso de pó de diamante e deposição de diamante policristalino. Foi utilizado um equipamento de deposição química a vapor assistida por plasma de microondas "Microwave Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition - MPCVD" para deposição do filme de diamante. ) Foi verificado que a combinação de um processo de corrosão com reagente Murakami seguido de uma corrosão a base de ácido sulfúrico resultou na melhor superfície de metal duro para deposição de diamante policristalino
- Imprenta:
- Data da defesa: 27.09.2005
-
ABNT
LOPES, Lutero Harzer. Preparação de metal duro para deposição de filmes de diamante policristalino. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. . Acesso em: 04 ago. 2025. -
APA
Lopes, L. H. (2005). Preparação de metal duro para deposição de filmes de diamante policristalino (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Lopes LH. Preparação de metal duro para deposição de filmes de diamante policristalino. 2005 ;[citado 2025 ago. 04 ] -
Vancouver
Lopes LH. Preparação de metal duro para deposição de filmes de diamante policristalino. 2005 ;[citado 2025 ago. 04 ]
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
