Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos (2005)
- Authors:
- Autor USP: ABURAYA, JIM HEIJI - IF
- Unidade: IF
- Sigla do Departamento: FAP
- DOI: 10.11606/D.43.2005.tde-22032007-143019
- Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X; ESTRUTURA DOS SÓLIDOS; FÍSICA DO ESTADO SÓLIDO
- Language: Português
- Abstract: A técnica de análises PIXE (Particle Induced X-ray Emission) de alvos finos é rotineiramente usado no Instituto de Física da Universidade de São Paulo (USP) pelo Lamfi (Laboratório de Materiais e Feixes Iônicos) em análises quantitativas elementares. A calibração do arranjo experimental do Lamfi é realizada através da irradiação de filmes finos padrões evaporados, sendo o rendimento de produção de raios X ajustado a partir deprimeiros princípios. Em análises PIXE de alvos espessos (TTPIXE), a composição daparticular amostra introduz efeitos de perda de energia das partículas incidentes e autoabsorção dos raios X produzidos. Estes efeitos são inexistentes na análise PIXE de alvosfinos. Paradoxalmente há a necessidade de se conhecer a composição da amostra, paracomputar estes efeitos, numa análise elementar quantitativa de alvos espessos. Este trabalhopropõe a diluição de amostras sólidas numa matriz conhecida onde as características de perda de energia das partículas incidentes e auto absorção da radiação produzida estejam caracterizadas (exemplo: ácido bórico, grafite) e supostamente não sofram alterações devido à introdução da amostra (diluição). Para o cálculo do rendimento de produção de raios X em análises TTPIXE é proposto um fator de correção para alvos espessos, dependente exclusivamente da matriz diluidora, aplicado ao rendimento de produção de raios X de alvos finos. Este procedimento viabiliza a utilização da curva de resposta para análises dealvos finos, já calibrada, do arranjo. Utilizando os modelos mais aceitos para o poder de freamento para prótons incidentes, seções de choque de produção de raios X e coeficientes de absorção de radiação pela matéria, o software (Clara) foi desenvolvido para o cálculo do rendimento de produção de raios X em alvos espessos, bem como os fatores de correção para dado raio X e determinada matriz. ) Alvos espessos foram confeccionados a partir de amostra padrão de referência (SRM-IAEA356 Marine sediment) para verificar os valores calculados pelo Clara e da metodologia de análise proposta. Os valores experimentais encontram-se em concordância com os valores certificados para um coeficiente de intervalo de confiança de 95% considerando o novo limite de detecção imposto pela diluição. Um roteiro para preparação de alvos espessos a partir de amostras sólidas, bem como a descrição do arranjo experimental, estão inclusos
- Imprenta:
- Data da defesa: 12.08.2005
- Status:
- Artigo publicado em periódico de acesso aberto (Gold Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão publicada (Published version)
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-
ABNT
ABURAYA, Jim Heiji. Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-22032007-143019/. Acesso em: 12 abr. 2026. -
APA
Aburaya, J. H. (2005). Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-22032007-143019/ -
NLM
Aburaya JH. Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos [Internet]. 2005 ;[citado 2026 abr. 12 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-22032007-143019/ -
Vancouver
Aburaya JH. Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos [Internet]. 2005 ;[citado 2026 abr. 12 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-22032007-143019/
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