Estudo experimental do escalamento dinâmico da rugosidade em filmes de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício (2005)
- Authors:
- Autor USP: GOZZI, GIULIANO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Subjects: FILMES FINOS; ELECTROLESS; RUGOSIDADE SUPERFICIAL
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho, foi estudada a morfologia superficial e o escalamento dinâmico da rugosidade em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre substrato de silício. O banho químico empregado foi uma solução diluída de ácido fluorídrico diluído (0,15 a 0,9 M HF) e sulfato de cobre (10-³ a 10-² M CuSO4). Os filmes finos de cobre foram caracterizados através de técnicas de perfilometria e espectroscopia de retroespalhamento de Rutherford (RBS) para obter a concentração planar total, a espessura e a densidade volumétrica dos filmes de cobre. Utilizando Microscopia de Força Atômica (AFM), foi analisada a evolução da rugosidade dos filmes de cobre. Para isso, foi desenvolvido um programa dedicado com o objetivo de calcular a rugosidade média quadrática para diversos comprimentos de escala de uma mesma amostra. Foram utilizados dois tipos de lâminas de silício com diferentes rugosidades superficiais: 0,07 e 0,13 nm RMS, respectivamente. Foram também empregados dois tipos de limpeza: uma terminada em imersão em solução diluída de ácido fluorídrico e outra, em solução fervente de isopropanol que proporciona a formação de uma monocamada de carbono em toda superfície da lâmina. Como resultado, foi verificado que a rugosidade RMS ou largura de superfície w(1,t) obedece a lei exponencial lH, onde 1 é o comprimento da região medida. Este comportamento foi sistematicamente observado nos estágios iniciais de crescimento com H 'APROXIMADAMENTE' 1,0para todos os casos estudados e para tempos de imersão de até 2 minutos. Após o estágio inicial de crescimento que obedeceu um comportamento do tipo normal com rugosidade constante (tß+ßlocal = 0), seguiu-se um outro regime de crescimento anômalo devido ao aparecimento de "ilhas" localizadas que evoluíram na forma de aglomerados e coalesceram para tempo de imersão de 20 a 50 minutos
- Imprenta:
- Data da defesa: 01.06.2005
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ABNT
GOZZI, Giuliano. Estudo experimental do escalamento dinâmico da rugosidade em filmes de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. . Acesso em: 20 jan. 2026. -
APA
Gozzi, G. (2005). Estudo experimental do escalamento dinâmico da rugosidade em filmes de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Gozzi G. Estudo experimental do escalamento dinâmico da rugosidade em filmes de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 2005 ;[citado 2026 jan. 20 ] -
Vancouver
Gozzi G. Estudo experimental do escalamento dinâmico da rugosidade em filmes de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 2005 ;[citado 2026 jan. 20 ]
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