Resistência à microtração de uma nova técnica de restauração com associação de resina fotoativada e resina quimicamente ativada (2004)
- Authors:
- USP affiliated authors: BALLESTER, RAFAEL YAGUE - FO ; MEDEIROS, IGOR STUDART - FO
- Unidade: FO
- Subjects: RESINAS COMPOSTAS; MATERIAIS DENTÁRIOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: RPG Revista da Pós-Graduação
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 11, n. 3, Res. IC12, p. 272, jul./set. 2004
- Conference titles: Reunião de Pesquisa
-
ABNT
ROSA, E. F et al. Resistência à microtração de uma nova técnica de restauração com associação de resina fotoativada e resina quimicamente ativada. RPG Revista da Pós-Graduação. São Paulo: Faculdade de Odontologia, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 24 abr. 2024. , 2004 -
APA
Rosa, E. F., Xavier, T. A., Ballester, R. Y., & Medeiros, I. S. (2004). Resistência à microtração de uma nova técnica de restauração com associação de resina fotoativada e resina quimicamente ativada. RPG Revista da Pós-Graduação. São Paulo: Faculdade de Odontologia, Universidade de São Paulo. -
NLM
Rosa EF, Xavier TA, Ballester RY, Medeiros IS. Resistência à microtração de uma nova técnica de restauração com associação de resina fotoativada e resina quimicamente ativada. RPG Revista da Pós-Graduação. 2004 ; 11( 3): 272.[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Rosa EF, Xavier TA, Ballester RY, Medeiros IS. Resistência à microtração de uma nova técnica de restauração com associação de resina fotoativada e resina quimicamente ativada. RPG Revista da Pós-Graduação. 2004 ; 11( 3): 272.[citado 2024 abr. 24 ] - Fator-C e resistência adesiva de compósitos
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