Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo (2004)
- Authors:
- Autor USP: LIMA, PAULO EDUARDO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Subjects: MATERIAIS ELETRÔNICOS; CORROSÃO; PLASMA (MICROELETRÔNICA)
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho foram desenvolvidos estudos sobre um jato de plasma com o objetivo de aperfeiçoar sua aplicação para a corrosão (plasma etching) de materiais eletrônicos. Uma nova modalidade de reator no qual um jato de plasmas é gerado em alto vácuo foi implementada para proceder a corrosão dos materiais. Condições geométricas e operacionais do reator foram investigadas com o propósito de se alcançar características de corrosão adequadas a processos de microeletrônica, tomando-se como base de comparação, os resultados conhecidos, obtidos através do reator RIE (Reactive Ion Etcher). Os materiais usados, especificamente, filmes de Carbono tipo Diamante (DLC), são fabricados por técnica de espirramento catódico, ou sputtering. A taxa de corrosão, seletividade, anisotropia e a uniformidade da corrosão constituíram o conjunto de parâmetros de processo avaliados no sentido de se caracterizar a nova técnica de corrosão por plasma para processos de microeletrônica. Os resultados indicam que o processo em alto vácuo e a deriva do plasma oferecem algumas potenciais vantagens desta técnica em relação a processos de corrosão por plasmas convencionais. A corrosão em ambiente de baixa pressão (10'POT.-4' Torr) reduz a presença de impurezas e a direcionalidade do jato de plasma favorece a anisotropia da corrosão. Adicionalmente, o baixo custo do sistema experimental e a facilidade que oferece para procedimentos experimentais podem tornar esta técnica competitiva oucomplementar à técnica de corrosão por plasma em baixa pressão mais usada, a qual utiliza o reator ECR (Microwave Electron Cyclotron Resonance)
- Imprenta:
- Data da defesa: 20.08.2004
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ABNT
LIMA, Paulo Eduardo. Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo. 2004. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2004. . Acesso em: 03 dez. 2025. -
APA
Lima, P. E. (2004). Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Lima PE. Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo. 2004 ;[citado 2025 dez. 03 ] -
Vancouver
Lima PE. Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo. 2004 ;[citado 2025 dez. 03 ]
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