Filmes finos obtidos pela polimerizaçao por plasma de éter etílico: mecanismos de deposição (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; DEMARQUETTE, NICOLE RAYMONDE - EP
- Unidade: EP
- Subjects: ÉTER; FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciência
- Publisher place: Bauru
- Date published: 2003
- Source:
- Título do periódico: Resumo.
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência-CBrAVIC
-
ABNT
LIMA, Roberto da Rocha et al. Filmes finos obtidos pela polimerizaçao por plasma de éter etílico: mecanismos de deposição. 2003, Anais.. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciência, 2003. . Acesso em: 28 mar. 2024. -
APA
Lima, R. da R., Carvalho, R. A. M., Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2003). Filmes finos obtidos pela polimerizaçao por plasma de éter etílico: mecanismos de deposição. In Resumo.. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciência. -
NLM
Lima R da R, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Filmes finos obtidos pela polimerizaçao por plasma de éter etílico: mecanismos de deposição. Resumo. 2003 ;[citado 2024 mar. 28 ] -
Vancouver
Lima R da R, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Filmes finos obtidos pela polimerizaçao por plasma de éter etílico: mecanismos de deposição. Resumo. 2003 ;[citado 2024 mar. 28 ] - Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros
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