Electroless copper deposits: an XAFS investigation on the influence of reducing agent on the film properties (2004)
- Authors:
- Autor USP: TICIANELLI, EDSON ANTONIO - IQSC
- Unidade: IQSC
- Assunto: ELETROQUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Laboratório Nacional de Luz Síncroton
- Publisher place: Campinas
- Date published: 2004
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Reunião Anual de Usuários do LNLS
-
ABNT
AMBROSIO, Renato Canha e TICIANELLI, Edson Antonio e SANTOS, Antonio Rodolfo dos. Electroless copper deposits: an XAFS investigation on the influence of reducing agent on the film properties. 2004, Anais.. Campinas: Laboratório Nacional de Luz Síncroton, 2004. . Acesso em: 28 dez. 2025. -
APA
Ambrosio, R. C., Ticianelli, E. A., & Santos, A. R. dos. (2004). Electroless copper deposits: an XAFS investigation on the influence of reducing agent on the film properties. In Resumos. Campinas: Laboratório Nacional de Luz Síncroton. -
NLM
Ambrosio RC, Ticianelli EA, Santos AR dos. Electroless copper deposits: an XAFS investigation on the influence of reducing agent on the film properties. Resumos. 2004 ;[citado 2025 dez. 28 ] -
Vancouver
Ambrosio RC, Ticianelli EA, Santos AR dos. Electroless copper deposits: an XAFS investigation on the influence of reducing agent on the film properties. Resumos. 2004 ;[citado 2025 dez. 28 ] - Progress in high power density fuel cells
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