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Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato (2003)

  • Authors:
  • Autor USP: SANTOS, CELIA APARECIDA LINO DOS - IQ
  • Unidade: IQ
  • Sigla do Departamento: QFL
  • Subjects: ELETROQUÍMICA; GÁLIO (ESTUDO); QUÍMICA INORGÂNICA
  • Language: Português
  • Abstract: Interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH foram estudadas a 25'GRAUS', a várias concentrações de NaOH, 1,0 x'lOPOT.NEG.3 mo1.'LPOT.NEG.1' a 5,0 mo1'LPOT.NEG.1', empregando técnicas eletroquímicas e não eletroquímicas na ausência e presença do íon acrilato. Os estudos tiveram como objetivo obter infomações sobre a dupla camada elétrica (DCE) e sobre a reação 'HIND.2'O/'HIND.2' empregando cobre como substrato, para um melhor entendimento da eletrodeposição do gálio. Os estudos foram precedidos de ensaios tecnológicos em que as condições experimentais e a natureza dos sistemas a serem estudados foram estabelecidas. Estudos por voltametria cíclica provaram que em NaOH 5,0 mo1.'LPOT.NEG.1 os processos de oxidação e redução do cobre são qualitativamente semelhantes aos observados em NaOH 0,1 mo1.'LPOT.NEG.1' mas a velocidade destes processos se toma uma ordem de grandeza maior em NaOH 5,0 mo1.'LPOT.NEG.1'. Ensaios por voltametria linear indicaram que a redução dos óxidos na superfície e a menor pureza do cobre (99,99'POR CENTO' comparado a 99,999 'POR CENTO') elevam a velocidade da reação 'HIND.2'O/'HIND.2'. Estudos cronoamperométricos mostraram a viabilidade do emprego desta técnica nos estudos da DCE da interfase Cu/NaOH 5,0 ml.'LPOT.-1' na região de potencial em que os processos faradaicos são da ordem de 20 'MICROLITROS' A.cm c'POT NEG.2' em condições estacionárias. As interfases Cu/NaOH foram comparadas com as interfases Pt/NaOH e os resultados obtidos por cronoamperometria, paraplatina, foram comparados com os observados por espectroscopia de impedância eletroquímica (EIE). O valor de 'MENOS'158 mV/(Hg/HgO) para o potencial de carga zero, determinado por EIE é comparável ao obtido por cronoamperometria ('MENOS'125 mV/ Hg/HgO), mantidos constantes os tratamentos superficiais do eletrodo e a pureza das soluções. A aplicação do modelo de Gouy Chapman para a solução diluída ('10POT.NEG.3' mo1.'LPOT NEG.l'), no ) potencial de carga zero, permitiu avaliar, conhecida a capacitância da DCE, os valores de capacitância. 'CIND.1', no plano interno de Helmholtz. A partir de 'CIND.1' foi possível calcular a constante dielétrica, K, nesta região, encontrando-se por ElE o valor 'CAPA.IGUAL 13,1'. A aplicação do modelo de Helmholtz às soluções de NaOH 5,0 mol.'LPOT NEG.1' permitiu determinar por cronoamperometria, a constante dielétrica na interfase, tanto para Cu/NaOH 5,0 mol.'LPOT.-1' (igual a 44), quanto para Pt/NaOH 5,0 moI.'LPOT NEG.1'(igual a 25). O emprego da microbalança de cristal de quartzo permitiu verificar a adsorção do íon acrilato desde o potencial de circuito aberto. O íon acrilato inibe todos os processos que ocorrem sobre platina (entre 0,4 V/(Hg/HgO) e -1,0 V(Hg/HgO)) e sobre cobre (entre -0,8 V(Hg/HgO) e 1,6 V(Hg/HgO)). Estudos potenciostáticos sob condições estacionárias mostraram que o acrilato inibe a deposição do gálio sobre cobre em meio de NaOH 5,0 moI.'LPOT NEG.1', o que foi verificado por técnicas de microscopia eletrônica devarredura (MEV) e energia dispersiva de Raios-X (EDS). Os resultados evidenciaram que o cuidado no emprego do acrilato no processamento da alumina deve ser levado em conta, quando se deseja obter gálio metálico como subproduto
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 28.08.2003
  • Acesso à fonte
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    • ABNT

      SANTOS, Célia Aparecida Lino dos; AGOSTINHO, Silvia Maria Leite. Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato. 2003.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-30092006-112330/ >.
    • APA

      Santos, C. A. L. dos, & Agostinho, S. M. L. (2003). Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-30092006-112330/
    • NLM

      Santos CAL dos, Agostinho SML. Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato [Internet]. 2003 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-30092006-112330/
    • Vancouver

      Santos CAL dos, Agostinho SML. Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato [Internet]. 2003 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-30092006-112330/

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