Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; GALVAO, RICARDO MAGNUS OSORIO - IF ; KIYOHARA, PEDRO KUNIHIKO - IF ; TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF
- School: IF
- DOI: 10.1088/0022-3727/36/7/313
- Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X; MICROSCOPIA ELETRÔNICA; ESPECTROSCOPIA DE MASSA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Physics D-Applied Physics
- ISSN: 0022-3727
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 36, n. 7, p. 842-848, 2003
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SAETTONE, E A O; MATTA, J A S da; ALVA, W; et al. Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain. Journal of Physics D-Applied Physics, Bristol, v. 36, n. 7, p. 842-848, 2003. Disponível em: < http://ej.iop.org/links/78/AHycvLK55EQ8FIJRDfxqZg/d30713.pdf > DOI: 10.1088/0022-3727/36/7/313. -
APA
Saettone, E. A. O., Matta, J. A. S. da, Alva, W., Chubaci, J. F. D., Fantini, M. C. de A., Galvao, R. M. O., et al. (2003). Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain. Journal of Physics D-Applied Physics, 36( 7), 842-848. doi:10.1088/0022-3727/36/7/313 -
NLM
Saettone EAO, Matta JAS da, Alva W, Chubaci JFD, Fantini MC de A, Galvao RMO, Kiyohara PK, Tabacniks MH. Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain [Internet]. Journal of Physics D-Applied Physics. 2003 ; 36( 7): 842-848.Available from: http://ej.iop.org/links/78/AHycvLK55EQ8FIJRDfxqZg/d30713.pdf -
Vancouver
Saettone EAO, Matta JAS da, Alva W, Chubaci JFD, Fantini MC de A, Galvao RMO, Kiyohara PK, Tabacniks MH. Plasma cleaning and analysis of archeological artefacts from Spain [Internet]. Journal of Physics D-Applied Physics. 2003 ; 36( 7): 842-848.Available from: http://ej.iop.org/links/78/AHycvLK55EQ8FIJRDfxqZg/d30713.pdf - Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
- Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
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Informações sobre o DOI: 10.1088/0022-3727/36/7/313 (Fonte: oaDOI API)
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