Tese

Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada (2001)

• Authors:
  • Moraes Junior, Hamilton Fernandes de
  • Seabra, Antonio Carlos (Orientador)
• Autor USP: MORAES JUNIOR, HAMILTON FERNANDES DE - EP
• Unidade: EP
• Sigla do Departamento: PTC
• Assunto: ÓPTICA ELETRÔNICA
• Language: Português
• Abstract: Neste trabalho estudamos a etapa de litografia por feixe de elétrons aplicada a fabricação de microelementos ópticos de relevo contínuo. Estudamos também a preparação do polímero e a influência de parâmetros como tempo de revelação, etapa de aquecimento de pós exposição (PEB), valor da energia do feixe de elétrons utilizado na exposição e tipo de solvente utilizado, nos valores de contraste e sensibilidade. Foi utilizado também um software dedicado a etapa de litografia por feixe de elétrons para a simulação dos perfis dos microelementos ópticos de relevo contínuo a serem fabricados. Os filmes obtidos com o polímero utilizado para a fabricação das microlentes, PMMA Elvacite 2041, tiveram uma precisão na espessura de 7% e rugosidade abaixo de 10 nm. Os parâmetros ideais encontrados para processamento, que proporcionam um melhor valor de sensibilidade e contraste, foram 30 keV para energia do feixe seguido de uma etapa de aquecimento pós exposição de 300 seg a '130 GRAUS'C e 120 seg de tempo de revelação em MIBK puro. As simulações estimaram corretamente a ordem dos parâmetros a serem utilizados, tornando mais rápido a obtenção das microlentes. Concluímos também que a determinação do arquivo característico do processo, a partir do qual o simulador obtém os perfis, deve ser construído empregando-se estruturas com largura de 1'micron' espaçadas de 30'micra', e não de 30'micra' espaçadas de 30'micra' como descrito no manual do fabricante.
• Imprenta:
  • Publisher place: São Paulo
  • Date published: 2001
• Data da defesa: 26.10.2001


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How to cite

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• ABNT

  MORAES JUNIOR, Hamilton Fernandes de. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. 2001. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2001. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-134008/pt-br.php. Acesso em: 27 fev. 2026.

• APA

  Moraes Junior, H. F. de. (2001). Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-134008/pt-br.php

• NLM

  Moraes Junior HF de. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada [Internet]. 2001 ;[citado 2026 fev. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-134008/pt-br.php

• Vancouver

  Moraes Junior HF de. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada [Internet]. 2001 ;[citado 2026 fev. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-134008/pt-br.php

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