Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(1 0 0)-2 X 1 (2001)
- Authors:
- Autor USP: ORNELLAS, FERNANDO REI - IQ
- Unidade: IQ
- DOI: 10.1016/s0039-6028(01)01379-6
- Subjects: QUÍMICA QUÂNTICA; QUÍMICA DE SUPERFÍCIE; SILÍCIO; ADSORÇÃO
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Surface Science
- ISSN: 0039-6028
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 490, n. 3, p. 637-643, 2001
- Este artigo NÃO possui versão em acesso aberto
-
Status: Nenhuma versão em acesso aberto identificada -
ABNT
UENO, Leonardo T. e ORNELLAS, Fernando Rei. Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(1 0 0)-2 X 1. Surface Science, v. 490, n. 3, p. 637-643, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0039-6028(01)01379-6. Acesso em: 16 mar. 2026. -
APA
Ueno, L. T., & Ornellas, F. R. (2001). Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(1 0 0)-2 X 1. Surface Science, 490( 3), 637-643. doi:10.1016/s0039-6028(01)01379-6 -
NLM
Ueno LT, Ornellas FR. Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(1 0 0)-2 X 1 [Internet]. Surface Science. 2001 ; 490( 3): 637-643.[citado 2026 mar. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0039-6028(01)01379-6 -
Vancouver
Ueno LT, Ornellas FR. Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(1 0 0)-2 X 1 [Internet]. Surface Science. 2001 ; 490( 3): 637-643.[citado 2026 mar. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0039-6028(01)01379-6 - Estudo ab initio dos isômeros 'H IND. 2'CNN, HCNNH e CNN'H IND. 2'
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