Highly oriented Nb-doped lead titanate thin films by reactive sputtering: electrical properties (1998)
- Authors:
- Autor USP: IBRAHIM, RICARDO CURY - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1143/JJAP.37.6060
- Assunto: FILMES FINOS (PROPRIEDADES ELÉTRICAS)
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Japanese Journal of Applied Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 37, n. 11, p. 6060-6064, Nov. 1998
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
IBRAHIM, Ricardo Cury et al. Highly oriented Nb-doped lead titanate thin films by reactive sputtering: electrical properties. Japanese Journal of Applied Physics, v. No 1998, n. 11, p. 6060-6064, 1998Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1143/JJAP.37.6060. Acesso em: 06 out. 2024. -
APA
Ibrahim, R. C., Horiuchi, T., Shiosaki, T., & Matsushige, K. (1998). Highly oriented Nb-doped lead titanate thin films by reactive sputtering: electrical properties. Japanese Journal of Applied Physics, No 1998( 11), 6060-6064. doi:10.1143/JJAP.37.6060 -
NLM
Ibrahim RC, Horiuchi T, Shiosaki T, Matsushige K. Highly oriented Nb-doped lead titanate thin films by reactive sputtering: electrical properties [Internet]. Japanese Journal of Applied Physics. 1998 ; No 1998( 11): 6060-6064.[citado 2024 out. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1143/JJAP.37.6060 -
Vancouver
Ibrahim RC, Horiuchi T, Shiosaki T, Matsushige K. Highly oriented Nb-doped lead titanate thin films by reactive sputtering: electrical properties [Internet]. Japanese Journal of Applied Physics. 1998 ; No 1998( 11): 6060-6064.[citado 2024 out. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1143/JJAP.37.6060 - Characterization of niobium-doped lead titanate thin films
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Informações sobre o DOI: 10.1143/JJAP.37.6060 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
 | Ibrahim-1998-Highly Orien... |
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