Estudo da interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' por microscopia eletrônica de varredura (2000)
- Authors:
- Autor USP: BENTO, CARLOS ALBERTO DA SILVA - ENGMAT
- Unidade: ENGMAT
- Subjects: MICROSCOPIA; ELETROQUÍMICA; MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
- Language: Português
- Abstract: A liga Ti-6Al-4V tem sido usada com sucesso como biomaterial com aplicações nos campos da odontologia e ortopedia. As características da liga Ti-6Al-4V que a tornaram um material interessante são sua boa resistência à corrosão em meiobiológico,combinada com um excelente grau de biocompatibilidade. Os efeitos biológicos a longo prazo dos íons metálicos resultantes da lenta lixiviação dos implantes de titânio não estão completamente entendidos. É conhecido que os íons titâniosãoconsiderados agentes químicos cancerígenos, os íons alumúnio causam desordem neurológicas e os íons vanádio estão associados com distúrbios enzimáticos, entre outros problemas. O recobrimento das ligas de titânio por óxido de titânio(Ti'OIND.2') pode atuar como uma barreira química para os íons lixiviados da superfície metálica da liga, além deste óxido ser um bom osseoindutor. O processo de aspersão térmica é amplamente empregado na aplicação de recobrimentos por óxidos.Umavez que este processo acontece em altas temperaturas, onde partículas fundidas ou semi-fundidas aderem ao substrato, pode ocorrer difusão localizada. O objetivo deste estudo é caracterizar a interdifusão dos elementos de liga através dascamadassuperficiais do sistema Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2'. Os recobrimentos de Ti'O IND.2' foram preparados pela técnica de aspersão por plasma. A zona recoberta mostrou pequena porosidade distribuída por toda a camada e algumastrincasradiais.Adicionalmente, uma grande quantidade de buracos foi observada na região entre-camadas. Neste trabalho, a interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' foi estudada por microscopia eletrônica de varredura. Os perfis de difusão do Ti, Al, V e O nascamadassuperficiais da amostra recoberta foram obtidos por microanálise semi-quantitativa por energia dispersiva de raios-X. A caracterização química superficial do lado substrato depois da deposição de Ti'O IND.2' mostrou a formação localizadadeTiO. Na região ) entre-camadas foram observados os perfis de difusão característicos com forma de S para o Ti, V e O. O perfil de difusão do Al mostrou um pico na região entre-camadas indicando um acúmulo de 'Al IND.2''O IND.3' nos buracospresentesnesta zona. O Ti'O IND.2 foi identificado como o maior constituinte no lado revestimento. Pequenas quantidades de Al e V foram o também foram detectadas homogeneamente, distribuídas dentro do depósito. A presença do Al e V (metaistóxicos) nasuperfície externa do depósito indica que estes metais não competem com a oxidação da camada depositada indicando um efeito desmascarante da superfície da liga metálica pelo óxido superficial Ti'O IND.2'
- Imprenta:
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 2000
- Data da defesa: 10.08.2000
-
ABNT
BENTO, Carlos Alberto da Silva. Estudo da interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' por microscopia eletrônica de varredura. 2000. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Carlos, 2000. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-13122001-151942/. Acesso em: 02 out. 2024. -
APA
Bento, C. A. da S. (2000). Estudo da interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' por microscopia eletrônica de varredura (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Carlos. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-13122001-151942/ -
NLM
Bento CA da S. Estudo da interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' por microscopia eletrônica de varredura [Internet]. 2000 ;[citado 2024 out. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-13122001-151942/ -
Vancouver
Bento CA da S. Estudo da interface Ti-6Al-4V/Ti'O IND.2' por microscopia eletrônica de varredura [Internet]. 2000 ;[citado 2024 out. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-13122001-151942/ - Covalent grafting of phenylphosphonate groups onto layered silica derived from in situ-leached chrysotile fibers
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