Estudos eletroquímicos de filmes de hidróxido de níquel eletrodepositados sobre platina (1999)
- Authors:
- Autor USP: BOCANEGRA, CARLOS HENRIQUE - IQSC
- Unidade: IQSC
- Assunto: FÍSICO-QUÍMICA
- Language: Português
- Abstract: O tema de pesquisa neste trabalho se refere aos estudos eletroquímicos da oxidação do hidróxido de níquel depositado sobre o substrato de platina. Durante estes estudos foi desenvolvido um procedimento padrão para preparar filmes de hidróxido de níquel através da técnica da eletroprecipitação, a partir de soluções de Ni'(N'O IND.3') IND.'0,1 e 1 M, sob diferentes condições de densidade de corrente e tempo de decomposição. Pelo uso da voltametria cíclica foram estabelecidas as condições ótimas de preparação dos depósitos. Deste modo, eletrodos eletroprecipitados do tipo Pt/Ni'(OH) IND.2' puderam ser adequadamente caracterizados de forma reprodutível, quando sujeitos ao regime de anodização em soluções de NaOH 1M, para formar o sistema Pt/ Ni'(OH) IND.2' /NiOOH. O comportamento eletroquímico deste sistema foi estudado em termos do processo de carga/descarga voltamétrica, estabilidade, irreversibilidade, redutibilidade e reprodutibilidade. Os filmes formados em 0,1M de Ni'(N'O IND.3') IND.2' e preparados com carga de deposição de 300 e 450 mC'cm POT.-2' mostraram uma boa estabilidade e reprodutibilidade durante os ciclos voltamétricos. Por outro lado, os filmes crescidos na mesma solução mas depositados com cargas inferiores a 100 'mC.'cm POT.-2' exibiram valores satisfatórios para o parâmetro redutibilidade, sendo encontrado um valor médio de 72%, indicando assim que a maior parte deste filmes foi reduzida durante o processo completo de carga/descarga. Aaplicação de diferentes modelos de crescimento de filmes passivos (migração iônica, troca simultânea de posições e modelo ôhmico) indicou que apenas o modelo ôhmico se ajustou adequadamente aos dados experimentais obtidos para a transformação do Ni'(OH) POT.2' em NiOOH. Adicionalmente, os valores dos parâmetros cinéticos (densidade de correntes de troca, 'i IND.f IND.1/ f IND.2 POT.0' e coeficiente de transferência 'ALFA') ) bem como a resistividade iônica dos filmes, 'rô', foram determinadas em função da carga de deposição de 300 mC'cm POT.-2', os parâmetros calculados foram 'i IND.f IND.1/f IND.2 POT.0'=1,7 x '10 POT.-2''Acm POT.-2', 'alfa'=0,27 e 'rô'=6,6 x '10 POT. 4' 'ômega'cm, para os filmes formados sob regime de carga de deposição de 450 mC'cm POT.-2' os correspondentes parâmentros foram de 2,3 x '10 POT.-2' 'Acm POT.-2', 0,23 e 4,4 x '10 POT.4' 'ômega'cm, respectivamente
- Imprenta:
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 1999
- Data da defesa: 11.03.1999
-
ABNT
BOCANEGRA, Carlos Henrique. Estudos eletroquímicos de filmes de hidróxido de níquel eletrodepositados sobre platina. 1999. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Carlos, 1999. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Bocanegra, C. H. (1999). Estudos eletroquímicos de filmes de hidróxido de níquel eletrodepositados sobre platina (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Carlos. -
NLM
Bocanegra CH. Estudos eletroquímicos de filmes de hidróxido de níquel eletrodepositados sobre platina. 1999 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
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