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Estudo experimental da tensão mecânica e da morfologia em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício (1998)

  • Authors:
  • USP affiliated authors: HASHIMOTO, ALEXANDRE ICHIRO - EP
  • Unidades: EP
  • Sigla do Departamento: PEE
  • Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: Neste trabalho, foram feitas deposições de filmes finos de cobre por processo eletroquímico espontâneo (solução de HF contaminada com cobre) ou por processo de evaporação sobre lâminas de silício (100). A tensão mecânica resultou menor para osfilmes depositados eletroquimicamente comparado aos filmes evaporados. Tal fato indica que os filmes depositados por processo eletroquímico espontâneo são menos susceptíveis a quebras ou trincas comparado aos filmes evaporados. Por outro lado, a resistividade para os filmes eletroquímicos resultou maior comparado aos filmes evaporados, o que foi mostrado ser um indício de que os filmes eletroquímicos são mais porosos. Observou-se, também, que quase não existe variação da tensão mecânicacom o aumento da espessura para o processo de deposição por evaporação. Do estudo da morfologia, verificou-se que os filmes obtidos a partir de uma solução diluída de ácido fluorídrico contaminada com sulfato de cobre são mais aderentes, compactos e lisos comparados aos filmes obtidos em solução diluída de ácido fluorídrico contaminada com cloreto de cobre. Um fato notável foi que a adição de hidróxido de amônia na solução diluída de ácido fluorídrico contaminada com cloreto de cobre resultou em filmes aderentes, lisos e com menor tamanho de grão em contraste com a forma floculada e pouco aderente dos filmes obtidos em solução diluída de ácido fluorídrico contaminada com cloreto de cobre sem adição de hidróxido de amônia
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 13.03.1998

  • How to cite
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    • ABNT

      HASHIMOTO, Alexandre Ichiro; SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Estudo experimental da tensão mecânica e da morfologia em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 1998.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1998.
    • APA

      Hashimoto, A. I., & Santos Filho, S. G. dos. (1998). Estudo experimental da tensão mecânica e da morfologia em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Hashimoto AI, Santos Filho SG dos. Estudo experimental da tensão mecânica e da morfologia em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 1998 ;
    • Vancouver

      Hashimoto AI, Santos Filho SG dos. Estudo experimental da tensão mecânica e da morfologia em filmes finos de cobre obtidos por deposição eletroquímica espontânea sobre silício. 1998 ;

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