Avaliação de resistência ao cisalhamento de união à dentina, dos cimentos de ionômero de vidro fotoativados, variando a intensidade de luz e o período de armazenamento (1997)
- Authors:
- USP affiliated authors: NAGEM FILHO, HALIM - FOB ; ARAUJO, PAULO AMARANTE DE - FOB ; BONACHELA, VALERCIO - FOB
- Unidade: FOB
- Assunto: MATERIAIS DENTÁRIOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Revista da Faculdade de Odontologia de Bauru
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 5, n. 1/2, p. 9-14, jan./jun. 1997
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ABNT
NOVAES JÚNIOR, João Batista et al. Avaliação de resistência ao cisalhamento de união à dentina, dos cimentos de ionômero de vidro fotoativados, variando a intensidade de luz e o período de armazenamento. Revista da Faculdade de Odontologia de Bauru, v. 5, n. ja/ju 1997, p. 9-14, 1997Tradução . . Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Novaes Júnior, J. B., Nagem Filho, H., Araújo, P. A. de, & Bonachela, V. (1997). Avaliação de resistência ao cisalhamento de união à dentina, dos cimentos de ionômero de vidro fotoativados, variando a intensidade de luz e o período de armazenamento. Revista da Faculdade de Odontologia de Bauru, 5( ja/ju 1997), 9-14. -
NLM
Novaes Júnior JB, Nagem Filho H, Araújo PA de, Bonachela V. Avaliação de resistência ao cisalhamento de união à dentina, dos cimentos de ionômero de vidro fotoativados, variando a intensidade de luz e o período de armazenamento. Revista da Faculdade de Odontologia de Bauru. 1997 ; 5( ja/ju 1997): 9-14.[citado 2025 dez. 29 ] -
Vancouver
Novaes Júnior JB, Nagem Filho H, Araújo PA de, Bonachela V. Avaliação de resistência ao cisalhamento de união à dentina, dos cimentos de ionômero de vidro fotoativados, variando a intensidade de luz e o período de armazenamento. Revista da Faculdade de Odontologia de Bauru. 1997 ; 5( ja/ju 1997): 9-14.[citado 2025 dez. 29 ] - Avaliacao das alteracoes lineares livres de resinas quimico-polimerizaveis , termoplasticas e medidas das suas desaptacoes em moldeiras
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