Condições de deposição para filmes finos de Cr (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: MISSELL, FRANK PATRICK - IF ; PEREIRA, JOSE AUGUSTO DE ALENCAR MENDES - EP
- Unidades: IF; EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Cbecimat: Anais
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais
-
ABNT
WATANABE, M M et al. Condições de deposição para filmes finos de Cr. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 28 fev. 2026. -
APA
Watanabe, M. M., Oppenheim, J., Missell, F. P., Schreiner, W., Bauemvol, J. R., & Pereira, J. A. de A. M. (1992). Condições de deposição para filmes finos de Cr. In Cbecimat: Anais. Campinas: Unicamp. -
NLM
Watanabe MM, Oppenheim J, Missell FP, Schreiner W, Bauemvol JR, Pereira JA de AM. Condições de deposição para filmes finos de Cr. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2026 fev. 28 ] -
Vancouver
Watanabe MM, Oppenheim J, Missell FP, Schreiner W, Bauemvol JR, Pereira JA de AM. Condições de deposição para filmes finos de Cr. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2026 fev. 28 ] - Construção e caracterização de um fotodiodo de silício
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