Simple, safe, and economical microwave plasma -assisted chemical vapor deposition facility (1992)
- Authors:
- USP affiliated author: SALVADORI, MARIA CECILIA BARBOSA DA S - IF
- School: IF
- DOI: 10.1063/1.1142557
- Subject: FÍSICO-QUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Review of Scientific Instruments
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.63, n.6 , p.3389-93, jun. 1992
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
BREWER, M A; BROWN, I G; DICKINSON, M R; et al. Simple, safe, and economical microwave plasma -assisted chemical vapor deposition facility. Review of Scientific Instruments, New York, v. 63, n. ju 1992, p. 3389-93, 1992. DOI: 10.1063/1.1142557. -
APA
Brewer, M. A., Brown, I. G., Dickinson, M. R., Galvin, J. E., Macgill, R. A., & Salvadori, M. C. (1992). Simple, safe, and economical microwave plasma -assisted chemical vapor deposition facility. Review of Scientific Instruments, 63( ju 1992), 3389-93. doi:10.1063/1.1142557 -
NLM
Brewer MA, Brown IG, Dickinson MR, Galvin JE, Macgill RA, Salvadori MC. Simple, safe, and economical microwave plasma -assisted chemical vapor deposition facility. Review of Scientific Instruments. 1992 ;63( ju 1992): 3389-93. -
Vancouver
Brewer MA, Brown IG, Dickinson MR, Galvin JE, Macgill RA, Salvadori MC. Simple, safe, and economical microwave plasma -assisted chemical vapor deposition facility. Review of Scientific Instruments. 1992 ;63( ju 1992): 3389-93. - Deposição de 'Zr IND. x'C utilizando dois canhões de plasma em sincronia
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Informações sobre o DOI: 10.1063/1.1142557 (Fonte: oaDOI API)
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