Estrutura de filmes finos de a-'SI' 'O IND.2' (1989)
- Authors:
- Autor USP: AEGERTER, MICHEL ANDRE - IFSC
- Unidade: IFSC
- Subjects: FILMES FINOS; MATERIAIS
- Language: Português
- Source:
- Título do periódico: Ceramica
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.35, n.232, p.53, 1989
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Ceramica
-
ABNT
OHSAKI, H et al. Estrutura de filmes finos de a-'SI' 'O IND.2'. Ceramica. [S.l.]: Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 24 abr. 2024. , 1989 -
APA
Ohsaki, H., Aegerter, M. A., Miura, K., & Tada, M. (1989). Estrutura de filmes finos de a-'SI' 'O IND.2'. Ceramica. Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo. -
NLM
Ohsaki H, Aegerter MA, Miura K, Tada M. Estrutura de filmes finos de a-'SI' 'O IND.2'. Ceramica. 1989 ;35( 232): 53.[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Ohsaki H, Aegerter MA, Miura K, Tada M. Estrutura de filmes finos de a-'SI' 'O IND.2'. Ceramica. 1989 ;35( 232): 53.[citado 2024 abr. 24 ] - Fabricação e caracterização de vidros e fluoretos Zblan
- Vidros porosos de alto teor de sílica para armazenamento de rejeitos nucleares
- Saxs measurements on aerogel
- Espalhamento raman a frequências muito baixas em vidros de composição 2'NA IND.2' O-'CaO- 3Si'O IND.2' com microcristalitos
- Preparation and characterization of gels of 'SI''O IND.2'-'AL IND.2''O IND.3' composition
- Vidros de neodimio para laser de alta potência
- Ferroelectric thin coatings
- Estudo do processo de gelificacao de sol de silica por espalhamento dinamico de luz
- Resposta dieletrica em cristais de kcn a ultra-baixas frequenciais
- Estudo de aerogels por espalhamento de raios x a baixos angulos
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
