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Peliculas de Si-a: h: construção de um reator PECVD, estudo de técnicas de deposição e caracterizacao das películas (1994)

  • Authors:
  • Autor USP: BOTTECCHIA, JOAO PAULO - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PEE
  • Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: O grande desenvolvimento da microeletronica nos ultimos anos esta diretamente ligado ao desenvolvimento de novos materiais, entre eles, o silicio amorfo hidrogenado e suas ligas. Entretanto, muito ha para estudar-se sobre suas propriedades fisicas a fim de aprimorar-se o seu desempenho em dispositivos. Varias tecnicas tem sido utilizadas para a obtencao desses materiais. Dentre elas, a deposicao quimica na fase vapor assistida por plasma (pecvd) destaca-se pela possibilidade de depositar-se em varios tipos de substrato, inclusive em grandes areas, a baixas temperaturas. Com o objetivo de estudar-se as propriedades do silicio amorfo e suas ligas, construiu-se um reator do tipo pecvd. Foram introduzidas inovacoes no reator a fim de se explorar a influencia dos parametros de deposicao sobre as propriedades optoeletronicas do material. As modificacoes introduzidas foram estudadas em funcao das caracteristicas de peliculas de silicio amorfo nao dopadas depositadas nesse reator. Foram feitas medidas de espectrometria de absorcao optica no visivel e no infravermelho para obtencao do hiato optico, do conteudo e da forma de incorporacao do hidrogenio; medidas de condutividade e fotocondutividade e de energia de ativacao.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 11.11.1994

  • How to cite
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    • ABNT

      BOTTECCHIA, João Paulo; ANDRADE, Adnei Melges de. Peliculas de Si-a: h: construção de um reator PECVD, estudo de técnicas de deposição e caracterizacao das películas. 1994.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994.
    • APA

      Bottecchia, J. P., & Andrade, A. M. de. (1994). Peliculas de Si-a: h: construção de um reator PECVD, estudo de técnicas de deposição e caracterizacao das películas. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Bottecchia JP, Andrade AM de. Peliculas de Si-a: h: construção de um reator PECVD, estudo de técnicas de deposição e caracterizacao das películas. 1994 ;
    • Vancouver

      Bottecchia JP, Andrade AM de. Peliculas de Si-a: h: construção de um reator PECVD, estudo de técnicas de deposição e caracterizacao das películas. 1994 ;

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