Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations (2017)
- Autores:
- Autor USP: MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1063/1.4980168
- Assuntos: TEMPERATURA; RAIOS GAMA; FILMES FINOS
- Idioma: Inglês
- Fonte:
- Título do periódico: Journal of Applied Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 121, n. 14, April 2017
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SCHELL, Juliana et al. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations. Journal of Applied Physics, v. 121, n. 14, 2017Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.4980168. Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Schell, J., Lupascu, D. C., Carbonari, A. W., Mansano, R. D., Ribeiro Junior, I. S., Dang, T. T., et al. (2017). Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations. Journal of Applied Physics, 121( 14). doi:10.1063/1.4980168 -
NLM
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Ribeiro Junior IS, Dang TT, Anusca I, Trivedi HK, Johnston K, Vianden R. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 14):[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4980168 -
Vancouver
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Ribeiro Junior IS, Dang TT, Anusca I, Trivedi HK, Johnston K, Vianden R. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 14):[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4980168 - Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering
- Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC)
- High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films
- Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC
- Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis
- Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition
- Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC)
- Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia
- Diffractive optical elements based in brand glass
- Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering
Informações sobre o DOI: 10.1063/1.4980168 (Fonte: oaDOI API)
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
