Deposições por plasma de compostos orgânicos oxigenados (2002)
- Autores:
- Autores USP: DEMARQUETTE, NICOLE RAYMONDE - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP
- Unidade: EP
- Assuntos: PLASMA; COMPOSTOS ORGÂNICOS
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Anais.
- Nome do evento: Simpósio de Iniciação Científica e Tecnológica da FATEC
-
ABNT
HAMANAKA, Cristian Otsuka et al. Deposições por plasma de compostos orgânicos oxigenados. 2002, Anais.. São Paulo: FATEC, 2002. . Acesso em: 28 mar. 2024. -
APA
Hamanaka, C. O., Nascimento Filho, A. P. do, Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2002). Deposições por plasma de compostos orgânicos oxigenados. In Anais.. São Paulo: FATEC. -
NLM
Hamanaka CO, Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Demarquette NR. Deposições por plasma de compostos orgânicos oxigenados. Anais. 2002 ;[citado 2024 mar. 28 ] -
Vancouver
Hamanaka CO, Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Demarquette NR. Deposições por plasma de compostos orgânicos oxigenados. Anais. 2002 ;[citado 2024 mar. 28 ] - Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros
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