Production of hidrogenated amorphous silicon films frow a low frequency glow discharge (1992)
- Authors:
- Autor USP: BAGNATO, VANDERLEI SALVADOR - IFQSC
- Unidade: IFQSC
- Subjects: CIRCUITOS ELETRÔNICOS; MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Proccedings
- Conference titles: Workshop on Crystalline and Amorphous Silicon and its Alloys
-
ABNT
FRAGALLI, J. F. et al. Production of hidrogenated amorphous silicon films frow a low frequency glow discharge. 1992, Anais.. Campinas: UNICAMP, 1992. . Acesso em: 17 abr. 2024. -
APA
Fragalli, J. F., Misoguti, L., Nakagaito, A. N., Branz, H., Grivickas, V., & Bagnato, V. S. (1992). Production of hidrogenated amorphous silicon films frow a low frequency glow discharge. In Proccedings. Campinas: UNICAMP. -
NLM
Fragalli JF, Misoguti L, Nakagaito AN, Branz H, Grivickas V, Bagnato VS. Production of hidrogenated amorphous silicon films frow a low frequency glow discharge. Proccedings. 1992 ;[citado 2024 abr. 17 ] -
Vancouver
Fragalli JF, Misoguti L, Nakagaito AN, Branz H, Grivickas V, Bagnato VS. Production of hidrogenated amorphous silicon films frow a low frequency glow discharge. Proccedings. 1992 ;[citado 2024 abr. 17 ] - AVS Quantum Science
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