Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB (2010)
- Authors:
- Autor USP: BARROS, SILVIA BERLANGA DE MORAES - FCF
- Unidade: FCF
- Subjects: COSMÉTICOS; FOTOQUÍMICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Cosmetics & Toiletries
- ISSN: 0103-4030
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 22, n. 3, p. 127-128, 2010
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Cosmetologia
-
ABNT
RIVELLI, Diogo Pineda et al. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. São Paulo: Faculdade de Ciências Farmacêuticas, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 20 abr. 2024. , 2010 -
APA
Rivelli, D. P., Haroutiounian Filho, C. A., Almeida, R. L. de, Ropke, C. D., Sawada, C. H., & Barros, S. B. de M. (2010). Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. São Paulo: Faculdade de Ciências Farmacêuticas, Universidade de São Paulo. -
NLM
Rivelli DP, Haroutiounian Filho CA, Almeida RL de, Ropke CD, Sawada CH, Barros SB de M. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. 2010 ; 22( 3): 127-128.[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Rivelli DP, Haroutiounian Filho CA, Almeida RL de, Ropke CD, Sawada CH, Barros SB de M. Fotoestabilidade do ácido clorogênico frente à radiação UVA e à UVB. Cosmetics & Toiletries. 2010 ; 22( 3): 127-128.[citado 2024 abr. 20 ] - Oxidative stress related parameters in the blood of rats treated with hexachlorobenzene
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