Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing (2008)
- Autores:
- Autores USP: DIBB, REGINA GUENKA PALMA - FORP ; BORSATTO, MARIA CRISTINA - FORP
- Unidade: FORP
- DOI: 10.1590/s0103-64402008000400010
- Assuntos: SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS; SALIVA; ADESIVOS DENTINÁRIOS
- Idioma: Inglês
- Resumo: Este estudo avaliou in vitro a resistência ao cisalhamento (RC) de um selante resinoso [Fluroshield (F), Dentsply/Caulk] em associação com um sistema adesivo de condicionamento total [Adper Single Bond 2 (SB), 3M/ESPE] ou auto-condicionante [Clearfil S3 Bond (S3), Kuraray Co., Ltd.] após contaminação salivar do esmalte, comparando dois protocolos: fotopolimerização individual do sistema adesivo e do selante ou simultânea de ambos os materiais. Superfícies mesiais e distais de esmalte de 45 terceiros molares hígidos foram aleatoriamente alocadas em 6 grupos (n=15), de acordo com a técnica adesiva empregada: I - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado com ácido fosfórico a 37%. Os demais grupos foram contaminados com saliva (0,01 mL por 10 s) após o condicionamento ácido. II - SB e F foram fotopolimerizados separadamente; III - SB e F foram fotopolimerizados simultaneamente; IV - S3 e F foram fotopolimerizados separadamente; V - S3 e F foram fotopolimerizados simultaneamente; VI - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado e contaminado sem sistema adesivo. RC foi testada em uma máquina universal de ensaios (0,5 mm/min; 50 kgf) e os dados analisados por ANOVA a 1 fator e teste exato de Fisher ('alfa'=0,05). As interfaces adesivas foram analisadas quanto ao padrão de fraturas em estereomicroscópio. Três espécimes de cada grupo foram analisados qualitativamente em microscópio eletrônico de varredura. As médias de RC em MPa foram: I-12,28 ('+ OU -'4,29); II-8,57 ('+ OU-'3,19); III-7,97 ('+ OU -'2,16); IV-12,56 ('+ OU -'3,11); V-11,45 ('+ OU -'3,77); e VI-7,47 ('+ OU -'1,99). Conclui-se que a fotopolimerização individual ou simultânea do sistema adesivo e do selante não afetou os valores de RC ao esmalte contaminado. S3/F apresentou RC estatisticamente maior do que os grupos tratados com o sistema adesivo etch-and-rinse SB e estatisticamente semelhante ao grupo controle, no qual o selante foi aplicado ....[continua....] [continuação]....em condições ideais, na ausência de contaminação salivar
- Imprenta:
- Local: Ribeirão Preto
- Data de publicação: 2008
- Fonte:
- Título do periódico: Brazilian Dental Journal
- ISSN: 0103-6440
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 19, n. 4, p. 341-347, 2008
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by
-
ABNT
SILVA, Jaciara Miranda Gomes et al. Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing. Brazilian Dental Journal, v. 19, n. 4, p. 341-347, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0103-64402008000400010. Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Silva, J. M. G., Torres, C. P., Contente, M. M. M. G., Oliveira, M. A. H. de M., Palma-Dibb, R. G., & Borsatto, M. C. (2008). Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing. Brazilian Dental Journal, 19( 4), 341-347. doi:10.1590/s0103-64402008000400010 -
NLM
Silva JMG, Torres CP, Contente MMMG, Oliveira MAH de M, Palma-Dibb RG, Borsatto MC. Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing [Internet]. Brazilian Dental Journal. 2008 ; 19( 4): 341-347.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-64402008000400010 -
Vancouver
Silva JMG, Torres CP, Contente MMMG, Oliveira MAH de M, Palma-Dibb RG, Borsatto MC. Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing [Internet]. Brazilian Dental Journal. 2008 ; 19( 4): 341-347.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-64402008000400010 - Avaliação in vitro
- Resistência adesiva da interface resina/dentina. Influência da variação da distância focal do laser Er:YAG
- Influence of salivary contamination in the resistance to shear bond strenght of sealants
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- Dentística operatória e restauradora
- Bond strength of two to pit and fissures sealants
- Resistência ao cisalhamento da interface resina/esmalte após fotopolimerização com diferentes fontes de luz
Informações sobre o DOI: 10.1590/s0103-64402008000400010 (Fonte: oaDOI API)
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