Avaliação de monômeros residuais em copolímeros utilizados em formulações de resinas odontológicas por HPLC (2006)
- Autores:
- Autores USP: CAVALHEIRO, CARLA CRISTINA SCHMITT - IQSC ; NEUMANN, MIGUEL GUILLERMO - IQSC
- Unidade: IQSC
- Assunto: GOMAS E RESINAS
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Resumos
- Nome do evento: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo - SIICUSP : Engenharia e Exatas
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ABNT
PINTO, Letícia Felipe Abdias et al. Avaliação de monômeros residuais em copolímeros utilizados em formulações de resinas odontológicas por HPLC. 2006, Anais.. São Paulo: USP, 2006. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Pinto, L. F. A., Leves, A. L. P., Cavalheiro, C. C. S., Rigoli, I. C., & Neumann, M. G. (2006). Avaliação de monômeros residuais em copolímeros utilizados em formulações de resinas odontológicas por HPLC. In Resumos. São Paulo: USP. -
NLM
Pinto LFA, Leves ALP, Cavalheiro CCS, Rigoli IC, Neumann MG. Avaliação de monômeros residuais em copolímeros utilizados em formulações de resinas odontológicas por HPLC. Resumos. 2006 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Pinto LFA, Leves ALP, Cavalheiro CCS, Rigoli IC, Neumann MG. Avaliação de monômeros residuais em copolímeros utilizados em formulações de resinas odontológicas por HPLC. Resumos. 2006 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Fotodegradação de PAAc sensibilizada por Tionina em meio aquoso
- Fotodegradação oxidativa de polímeros solúveis em água via foto-fenton
- Degradação de polímeros fotossensibilizados por corantes
- Estudos de supressão de fluorescência em extratos brutos de Azaléia Rhododendron Siimsi por hipoclorito de sódio
- Estudos das reações elementares envolvidas nas fotopolimerizações dos sistemas MMA / VN TEA e MMA / VN / 4-anisidina
- Caracterização de clusters de estirenossulfonato de sódio por técnica fluorimétrica
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- Comportamento espectral do estirenossulfonato de sódio na presença de partículas da argila laponita RD
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