Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications (2006)
- Autores:
- Autores USP: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; PEREYRA, INÊS - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
- Assuntos: DIFRAÇÃO POR RAIOS X; ESTRUTURA DOS SÓLIDOS; FILMES FINOS
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Journal of non-crystalline solids
- ISSN: 0022-3093
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 352, n. 23-25, p. 2319-2323, 2006
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, v. 352, n. 23-25, p. 2319-2323, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012. Acesso em: 25 abr. 2024. -
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, 352( 23-25), 2319-2323. doi:10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012 -
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 abr. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012 -
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 abr. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012 - Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films
- Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD
- Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
Informações sobre o DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012 (Fonte: oaDOI API)
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