Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering (2006)
- Authors:
- USP affiliated authors: SOUZA, ROBERTO MARTINS DE - EP ; BENEGRA, MARJORIE - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.214
- Subjects: FILMES FINOS; TENSÃO RESIDUAL; RESISTÊNCIA DOS MATERIAIS; PLASMA (PROCESSOS); TITÂNIO; NITRATOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 494, n. 1-2, p. 146-150, Jan. 2006
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
BENEGRA, Marjorie et al. Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering. Thin Solid Films, v. 494, n. Ja 2006, p. 146-150, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.08.214. Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Benegra, M., Lamas, D. G., Fernández de Rapp, M. E., Mingolo, N., Kunrath, A. O., & Souza, R. M. de. (2006). Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering. Thin Solid Films, 494( Ja 2006), 146-150. doi:10.1016/j.tsf.2005.08.214 -
NLM
Benegra M, Lamas DG, Fernández de Rapp ME, Mingolo N, Kunrath AO, Souza RM de. Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2006 ; 494( Ja 2006): 146-150.[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.08.214 -
Vancouver
Benegra M, Lamas DG, Fernández de Rapp ME, Mingolo N, Kunrath AO, Souza RM de. Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2006 ; 494( Ja 2006): 146-150.[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.08.214 - Desenvolvimento "in situ" de aluminetos de níquel por plasma por arco transferido resistentes a oxidação
- Viabilidade do cálculo das tensões residuais pela técnica de indentação instrumentada em filmes finos de nitreto de titânio
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.214 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
 | Souza_RM-2006-Residual st... |
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