Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure (2004)
- Authors:
- Autor USP: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP
- Unidade: EP
- Subjects: MICROELETRÔNICA; FILMES FINOS; ELETROQUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: The Electrochemical Society
- Publisher place: Pennington
- Date published: 2004
- ISBN: 1-56677-416-0
- Source:
- Título do periódico: Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03
- Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO
-
ABNT
SANTOS, Regis E. et al. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 28 mar. 2024. -
APA
Santos, R. E., Doi, I., Teixeira, R. C., Diniz, J. A., Swart, J. W., & Santos Filho, S. G. dos. (2004). Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. In Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society. -
NLM
Santos RE, Doi I, Teixeira RC, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 mar. 28 ] -
Vancouver
Santos RE, Doi I, Teixeira RC, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 mar. 28 ] - Potentiostatic electrodeposition of Au-Sn alloys from a non-cyanide bath for soldering: influence of reagents concentrations
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