Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films (2003)
- Autores:
- Autores USP: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; PEREYRA, INÊS - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1016/s0040-6090(02)01053-2
- Assuntos: FILMES FINOS; FOTOLUMINESCÊNCIA
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Thin Solids Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 425, n. 1-2, p. 275-281, 2003
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films. Thin Solids Films, v. 425, n. 1-2, p. 275-281, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2003). Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films. Thin Solids Films, 425( 1-2), 275-281. doi:10.1016/s0040-6090(02)01053-2 -
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Thin Solids Films. 2003 ; 425( 1-2): 275-281.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2 -
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Thin Solids Films. 2003 ; 425( 1-2): 275-281.[citado 2024 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2 - On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0040-6090(02)01053-2 (Fonte: oaDOI API)
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