Acoplamento eletrônico de ligante diíminas em rutênio (II). Influência na liberação de NO durante a fotólise de complexos nitrosilos (2003)
- Autores:
- Autores USP: TEDESCO, ANTONIO CLAUDIO - FFCLRP ; SILVA, ROBERTO SANTANA DA - FCFRP
- Unidades: FFCLRP; FCFRP
- Assunto: QUÍMICA INORGÂNICA
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Editora: Sociedade Brasileira de Química
- Local: Poços de Caldas
- Data de publicação: 2003
- Fonte:
- Título do periódico: Livro de Resumos
- Nome do evento: Reunião Anual da Sociedade Brasileira de Química
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ABNT
LIMA, Renata Galvão de e TEDESCO, Antônio Cláudio e SILVA, Roberto Santana da. Acoplamento eletrônico de ligante diíminas em rutênio (II). Influência na liberação de NO durante a fotólise de complexos nitrosilos. 2003, Anais.. Poços de Caldas: Sociedade Brasileira de Química, 2003. . Acesso em: 24 set. 2024. -
APA
Lima, R. G. de, Tedesco, A. C., & Silva, R. S. da. (2003). Acoplamento eletrônico de ligante diíminas em rutênio (II). Influência na liberação de NO durante a fotólise de complexos nitrosilos. In Livro de Resumos. Poços de Caldas: Sociedade Brasileira de Química. -
NLM
Lima RG de, Tedesco AC, Silva RS da. Acoplamento eletrônico de ligante diíminas em rutênio (II). Influência na liberação de NO durante a fotólise de complexos nitrosilos. Livro de Resumos. 2003 ;[citado 2024 set. 24 ] -
Vancouver
Lima RG de, Tedesco AC, Silva RS da. Acoplamento eletrônico de ligante diíminas em rutênio (II). Influência na liberação de NO durante a fotólise de complexos nitrosilos. Livro de Resumos. 2003 ;[citado 2024 set. 24 ] - Nitric oxide photo-induced liberation from chloro (2,2'-bipyridine) nitrosyl ruthenium (II) in aqueous solution
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