Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (2003)
- Autores:
- Autor USP: SOUZA, DENISE CRIADO PEREIRA DE - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Assuntos: FILMES FINOS; SILÍCIO
- Idioma: Português
- Resumo: Neste trabalho apresentamos os resultados da deposição e caracterização de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) à baixas temperaturas (320°C). O objetivo deste trabalho é obter filmes de ligas amorfas de silício, oxigênio e nitrogênio com composição química ajustável de forma contínua desde à do Si´O IND.2´ até a do ´Si IND.3´´N IND.4´ visando sua aplicação em dispositivos ópticos e eletrônicos. Os filmes foram crescidos a partir de duas misturas gasosas (silano, óxido nitroso e nitrogênio) e (silano, óxido nitroso e amônia) e a relação entre os fluxos dos gases foi variada de forma a obter as composições químicas desejadas na fase sólida. Foi procurado também obter filmes com alta e baixa taxa de deposição, para as diferentes aplicações. Os filmes foram caracterizados através da técnica de espectroscopia por retroespalhamento Rutherford (RBS) para a obtenção da composição química, espectroscopia de absorção no infravermelho (FTIR) para a determinação das ligações químicas, elipsometria para a determinação de propriedades ópticas como índice de refração e a técnica de X-ray Absorption Near Edge Structure (XANES) para o estudo de estrutura de ordem local e média em torno de uma determinada espécie atômica. Os resultados demonstraram que com as duas misturas gasosas é possível variar a composição dos filmes de forma contínua permitindo assim um controle preciso das concentrações atômicas e, portanto, um bom controle do índice de refração. Os filmes não apresentaram incorporação significativa de ligações Si-H, tornando-os bons candidatos para as aplicações em dispositivos optoeletrônicos. A incorporação de nitrogênio foi mais eficiente para as amostras crescidas com N´H IND.3´ em comparação às crescidas com ´N IND.2´.As amostras de baixa taxa de deposição apresentaram densidades semelhantes, podendo ser utilizada qualquer uma das misturas gasosas na produção dos filmes. Para a obtenção de filmes espessos, as amostras crescidas com nitrogênio apresentaram melhores características quanto a densidade em comparação às crescidas com amônia.
- Imprenta:
- Data da defesa: 23.04.2003
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ABNT
SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/. Acesso em: 04 maio 2024. -
APA
Souza, D. C. P. de. (2003). Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/ -
NLM
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 maio 04 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/ -
Vancouver
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 maio 04 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
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