Técnicas litográficas não convencionais para fabricação de microdispositivos (2002)
- Autor:
- Autor USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Assuntos: MICROELETRÔNICA; DISPOSITIVOS ÓPTICOS; FEIXES ÓPTICOS
- Idioma: Português
- Resumo: Neste trabalho estabelecemos um sistema de litografia por feixe de elétrons voltado à pesquisa, especialmente para fabricação de microdispositivos eletromecânicos e ópticos e descrevemos algumas aplicações desse sistema. Inicialmente descreve-se o sistema litográfico estabelecido, suas principais características, equipamentos e ferramentas de software agregadas. A seguir descreve-se o desenvolvimento de processos litográficos empregando-se resistes espessos, procurando-se enfatizar os aspectos distintos da litografia tradicional para CIs. Também é dada especial atenção à modelagem de perfis de relevo contínuo para fabricação de microdispositivos ópticos. Como exemplos práticos da aplicação desse sistema são mostrados os resultados obtidos na fabricação de microengrenagens, microosciladores fluídicos e microlentes de relevo contínuo.
- Imprenta:
- Data da defesa: 16.10.2002
-
ABNT
SEABRA, Antonio Carlos. Técnicas litográficas não convencionais para fabricação de microdispositivos. 2002. Tese (Livre Docência) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-24052022-085830/. Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Seabra, A. C. (2002). Técnicas litográficas não convencionais para fabricação de microdispositivos (Tese (Livre Docência). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-24052022-085830/ -
NLM
Seabra AC. Técnicas litográficas não convencionais para fabricação de microdispositivos [Internet]. 2002 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-24052022-085830/ -
Vancouver
Seabra AC. Técnicas litográficas não convencionais para fabricação de microdispositivos [Internet]. 2002 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-24052022-085830/ - The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities
- Adaptacao de controladores de instrumentos para o labview versao estudantil
- Litografia para microeletronica
- Estudo e controle do grau de anisotropia na corrosão a seco de dióxido de silício
- Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics
- Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons
- Circuit for pH measurement in a LTCC substrate
- Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters
- Sal601-er7 as a negative tone resist for mask - making
- Modernização do Laboratório Didático de Eletrônica
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas