Propriedades químicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado (2002)
- Autores:
- Autores USP: FAZZIO, ADALBERTO - IF ; SILVA, ANTONIO JOSE ROQUE DA - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Resumos
- Nome do evento: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada
-
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Propriedades químicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado. 2002, Anais.. São Paulo: SBF, 2002. . Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Orellana, W. M., Fazzio, A., Silva, A. J. R. da, & Fantini, M. C. de A. (2002). Propriedades químicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado. In Resumos. São Paulo: SBF. -
NLM
Scopel WL, Orellana WM, Fazzio A, Silva AJR da, Fantini MC de A. Propriedades químicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado. Resumos. 2002 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Scopel WL, Orellana WM, Fazzio A, Silva AJR da, Fantini MC de A. Propriedades químicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado. Resumos. 2002 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films
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