Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y' (2000)
- Authors:
- Urbano, A - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- Cruz, T G Souza - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- Castro, Sandra C de - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- Landers, R - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- Siervo, A D - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- Gorenstein, A
- Tabacniks, Manfredo Harri
- Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
- Morais, J - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
- USP affiliated authors: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Assunto: ÓPTICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Resumos de Trabalhos
- Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS
-
ABNT
URBANO, A et al. Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y'. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 30 mar. 2024. -
APA
Urbano, A., Cruz, T. G. S., Castro, S. C. de, Landers, R., Siervo, A. D., Gorenstein, A., et al. (2000). Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y'. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS. -
NLM
Urbano A, Cruz TGS, Castro SC de, Landers R, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Morais J. Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y'. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 mar. 30 ] -
Vancouver
Urbano A, Cruz TGS, Castro SC de, Landers R, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Morais J. Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y'. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 mar. 30 ] - Intercalacao em filmes finos amorfos de 'V IND.2''O IND.5'
- Intercalação de lítio em filmes finos de óxido de milibdênio
- Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films
- Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício
- Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions
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