Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering (1998)
- Authors:
- USP affiliated authors: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sociedade Brasileira de Física
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1998
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada
-
ABNT
FERREIRA, Fábio Furlan et al. Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering. 1998, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 1998. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Ferreira, F. F., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Lourenco, A., & Gorenstein, A. (1998). Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. -
NLM
Ferreira FF, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Lourenco A, Gorenstein A. Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering. Resumos. 1998 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Ferreira FF, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Lourenco A, Gorenstein A. Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering. Resumos. 1998 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Filmes eletrocromicos de 'NIO IND.X' depositados pou 'rf- sputtering
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